MRI uuringud tuvastavad skisofreeniaga patsientidel aju rooste

Uued uuringud on avastanud, et aju kahjustav keemiline tasakaalustamatus võib kaasa aidata skisofreeniale.

Uut tüüpi MRI mõõtmist kasutades teatasid neuroteadlased skisofreeniaga patsientide oksüdatiivse stressi kõrgemast tasemest, võrreldes nii tervete kui ka bipolaarse häirega inimestega.

"Intensiivne energiavajadus ajurakkudele põhjustab väga reaktiivsete hapnikuliikide, nagu vabade radikaalide ja vesinikperoksiidi, kuhjumist," ütles uuringu juhtivteadur, dr Fei Du, Harvardi meditsiinikooli psühhiaatria dotsent.

Skisofreenia korral arvatakse, et liigne oksüdeerumine, mis hõlmab sama tüüpi keemilisi reaktsioone, mis põhjustavad metalli roostetamist, põhjustab põletikku ja rakukahjustusi. Selle protsessi mõõtmine inimese elusajus on olnud aga väljakutse.

Du ja tema kolleegid McLeani haiglas mõõtsid oksüdatiivset stressi, kasutades uut magnetresonantsspektroskoopia tehnikat. Selles meetodis kasutatakse MRI-skannereid kahe molekuli, NAD + ja NADH, aju kontsentratsioonide mitteinvasiivseks mõõtmiseks, mis annavad ülevaate sellest, kui hästi aju suudab puhverdada liigseid oksüdeerijaid.

21 kroonilise skisofreeniaga patsiendi seas täheldas Du NADH tõusu 53 protsenti, võrreldes sama vanusega tervete inimestega.

Uuritud skisofreenia korral täheldati sarnast NADH taseme tõusu, mis viitab teadlaste sõnul oksüdatsiooni tasakaaluhäirele isegi haiguse varases staadiumis.

Mõõdukamat NADH tõusu täheldati ka bipolaarse häire korral, millel on skisofreeniaga teatud geneetiline ja kliiniline kattuvus.

Lisaks skisofreenia bioloogiasse uute teadmiste pakkumisele pakub see leid ka Du sõnul potentsiaalset viisi uute sekkumiste tõhususe testimiseks.

"Loodame, et see töö viib uute strateegiateni, et kaitsta aju oksüdatiivse stressi eest ja parandada skisofreenia korral aju tööd," ütles ta.

Uuringut tutvustati 2016. aasta Ameerika neuropsühhofarmakoloogia kolledži aastakoosolekul Floridas Hollywoodis.

Allikas: American College of Neuropsychopharmacology